深圳市帝龙科技有限公司是一家专业销售环保涂装设备的企业、涂装设备、废气处理设备、粉尘处理设备是我们公司的主要产品,深圳市帝龙科技有限公司以热情周到、方便快捷的售前、售后服务,使我们赢得越来越多的客户和市场,也使我们更有信心与贵公司携手并进,开创未来。公司自成立以来坚持以“客户需求”为导向,以“行业变革大趋势”为发展方向,以“诚信、沟通”为宗旨,以“技术、服务”为立业之本深圳市帝龙科技有限公司的诚信、实力和产品质量获得业界的认可,欢迎各界朋友莅临参观、指导和洽谈业务。
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你这废气达到排放标准的话,这个要和检测部门沟通问一下可不可以不装。个人建议还是装一下,求个心安理得,要不然哪天超标了,这家光氧废气处理设备你可以看一下。
其他答案1:
这个我不能准确的回答你,因为每间厂房车间产生的废气浓度都不一样,环保设备的规格不是死板的,而是随着厂房的环境去调整环保设备的配置的,这个要看废气浓度,如果风量大了就浪费了,风量小了也不行,所以我建议你找专业的厂家万川环保工程去咨询这个问题。
其他答案2:
带领下融为一体
废气处理设备及价格,我想开办一个小型废品热加工回收再利用工厂(有机裂解过程),生产过程会产生废气,考虑到环保要求需要废气处理,所以想了解下现在市场上关于废气处理这一块的设备以及价格情况,好对投资回报率有个了解。
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对于很多中小型企业,如印刷厂、油漆厂、印染厂等,如何做好废气处理成了头疼的事情。林森给大家介绍一下光氧催化废气处理。
光氧催化废气处理,本技术具有高效除恶臭、无需添加任何物质、适应性强、连续运行稳定可靠、运行成本低、设备占地面积小,自重轻等优势,采用先进技术理念,可彻底分解工业废气中有害物质,并能达到良好的脱臭、净化效果,不产生二次污染,同时达到高效消毒杀菌的作用。
光氧催化废气处理设备还具有安全、防爆特性,已通过相关检测的防爆合格认证。主要用于恶臭气体的脱臭净化处理,适用于炼油厂、橡胶厂、皮革厂、油漆厂、化工厂、制药厂、印刷厂、污水处理厂、垃圾转运站等行业。
大家都知道,臭氧对恶臭气体及其它刺激性异味有很强的清除效果,作为强氧化剂进行废气氧化,裂解恶臭气体分子键,破坏细菌的核酸,再通过臭氧进行氧化反应,达到脱臭及杀灭细菌的目的。
泰州林森环境工程的废气处理设备已广泛应用于上百家大中小型企业的环保污染治理项目,赢得了良好信誉和口碑,深得客户好评,欢迎大家前来详谈。
其他答案1:
废气处理设备有很多种,不同的设备价格是不同。需要清楚您是具体需要哪种设备,才能好判断价格。
废气处理设备,主要是指运用不同工艺技术,通过回收或去除、减少排放尾气的有害成分,达到保护环境、净化空气的一种环保设备。
分类:
吸收设备
吸收法采用低挥发或不挥发性溶剂对VOCs进行吸收,再利用VOCs和吸收剂物理性质的差异进行分离。
含VOCs的气体自吸收塔底部进入塔内,在上升过程中与来自塔顶的吸收剂逆流接触,净化后的气体由塔顶排出。吸收了VOCs的吸收剂通过热交换器后,进入汽提塔顶部,在温度高于吸收温度或压力低于吸收压力的条件下解吸。解吸后的吸收剂经过溶剂冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs气体经过冷凝器、气液分离器后以较纯的VOCs气体离开汽提塔,被回收利用。该工艺适合于VOCs浓度较高、温度较低的气体净化,其他情况下需要作相应的工艺调整。
吸附设备
在用多孔性固体物质处理流体混合物时,流体中的某一组分或某些组分可被吸表面并浓集其上,此现象称为吸附。吸附处理废气时,吸附的对象是气态污染物,气固吸附。被吸附的气体组分称为吸附质,多孔固体物质称为吸附剂。
固体表面吸附了吸附质后,一部被吸附的吸附质可从吸附剂表面脱离,此现附。而当吸附进行一段时间后,由于表面吸附质的浓集,使其吸附能力明显下降而吸附净化的要求,此时需要采用一定的措施使吸附剂上已吸附的吸附质脱附,以协的吸附能力,这个过程称为吸附剂的再生。因此在实际吸附工程中,正是利用吸附一再生一再吸附的循环过程,达到除去废气中污染物质并回收废气中有用组分。
净化设备
燃烧法用于处理高浓度Voc与有恶臭的化合物很有效,其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧,大多数生成二氧化碳和水蒸气,可以排放到大气中。但当处理含氯和含硫的有机化合物时,燃烧生成产物中HCl或SO2,需要对燃烧后气体进一步处理。
治理设备
等离子体就是处于电离状态的气体,其英文名称是plasma,它是由美国科学 muir,于1927年在研究低气压下汞蒸气中放电现象时命名的。等离子体由大量的子、中性原子、激发态原子、光子和自由基等组成,但电子和正离子的电荷数必须体表现出电中性,这就是“等离子体”的含义。等离子体具有导电和受电磁影响的许多方面与固体、液体和气体不同,因此又有人把它称为物质的第四种状态。根据状态、温度和离子密度,等离子体通常可以分为高温等离子体和低温等离子体(包子体和冷等离子体)。其中高温等离子体的电离度接近1,各种粒子温度几乎相同系处于热力学平衡状态,它主要应用在受控热核反应研究方面。而低温等离子体则学非平衡状态,各种粒子温度并不相同。其中电子温度( Te)≥离子温度(Ti),可达104K以上,而其离子和中性粒子的温度却可低到300~500K。一般气体放电子体属于低温等离子体。
截至2013年,对低温等离子体的作用机理研究认为是粒子非弹性碰撞的结果。低温等离富含电子、离子、自由基和激发态分子,其中高能电子与气体分子(原子)发生撞,将能量转换成基态分子(原子)的内能,发生激发、离解和电离等一系列过秸处于活化状态。一方面打开了气体分子键,生成一些单分子和固体微粒;另一力生.OH、H2O2.等自由基和氧化性极强的O3,在这一过程中高能电子起决定性作用,离子的热运动只有副作用。常压下,气体放电产生的高度非平衡等离子体中电子温层氏度)远高于气体温度(室温100℃左右)。在非平衡等离子体中可能发生各种类型的化学反应,主要决定于电子的平均能量、电子密度、气体温度、有害气体分子浓度和≥气体成分。这为一些需要很大活化能的反应如大气中难降解污染物的去除提供了另外也可以对低浓度、高流速、大风量的含挥发性有机污染物和含硫类污染物等进行处理。
常见的产生等离子体的方法是气体放电,所谓气体放电是指通过某种机制使一电子从气体原子或分子中电离出来,形成的气体媒质称为电离气体,如果电离气由外电场产生并形成传导电流,这种现象称为气体放电。根据放电产生的机理、气体的压j源性质以及电极的几何形状、气体放电等离子体主要分为以下几种形式:①辉光放电;③介质阻挡放电;④射频放电;⑤微波放电。无论哪一种形式产生的等离子体,都需要高压放电。容易打火产生危险。由于对诸如气态污染物的治理,一般要求在常压下进行。
5、光催化和生物净化设备
光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无毒无害的产物,而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁,即使用常规的催化、氧化方法亦需要几百度的高温。
从理论上讲,只要半导体吸收的光能不小于其带隙能,就足以激发产生电子和空穴,该半导体就有可能用作光催化剂。常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物,如 Ti0、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点,具体研究中可根据需要选用,如CdS半导体带隙能较小,跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易发生光腐蚀,使用寿命有限。相对而言,Ti02的综合性能较好,是最广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。
所以需要知道具体价格,需要确定设备类型等,想要了解更多废气处理设备的问题,深圳市帝龙科技有限公司。
其他答案2:
近几年,我国随着经济的高速发展,城市化进程的不断加快,由于城市规划、工业结构和工业布局不尽合理,造成了城市功能区划分不明显,引发的恶臭污染事件日益增多,人们对恶臭污染的投诉也越
来越多。
深圳市帝龙科技有限公司针对恶臭污染问题的严重性,特研发推出广源环保UV-光解催化除臭设
备,下面就来介绍一下本产品的原理及性能:
产品技术原理:
本产品利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射恶臭气体,裂解恶臭气体如:氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S,VOC类,苯、甲苯、二甲苯的分子键,
使呈游离状态的污染物分子与臭氧氧化结合成小分子无害或低害的化合物,如CO2,H2O等。
利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中氧分子产生游离氧,即活性氧,因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,进而产生臭氧。UV+O2→O-+O(活性氧)O+O2→O3(臭氧),众所周知臭氧对
有机物具有极强的氧化作用,对恶臭气体及其它刺激性异味有立竿见影的清除效果。
恶臭气体利用排风设备输入到本净化设备后,净化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同分解氧化反应,使恶臭气体物质及其降解转化成低分子化合物,水和二氧化碳,再通过排风管道
排除室外。利用高能UV光束裂解恶臭气体中细菌的分子键,破坏细菌的核酸,再通过臭氧进行氧化反应,彻底达到脱臭及杀灭细菌的目的。
产品性能:
1、高效除恶臭:能高效去除挥发性有机物(VOC)、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物,以及各种恶臭味,脱臭效率最高可达99%以上,脱臭效果大大超过国家1993年颁布的恶臭污染物排放
标准(GB14554-93)。
2、无需添加任何物质:只需要设置相应的排风管道和排风动力,使恶臭气体通过本设备进行脱臭分解净化,无需添加任何物质参与化学反应。
3、适应性强:可适应高浓度,大气量,不同恶臭气体物质的脱臭净化处理,可每天24小时连续工作,运行稳定可靠。
4、运行成本低:本设备无任何机械动作,无噪音,无需专人管理和日常维护,只需作定期检查,本设备能耗低,(每处理1000立方/小时,仅耗电0.2度电能),设备风阻极低小于50PA,可节约大量排
风动力能耗。
5、无需预处理:恶臭气体无需进行特殊的预处理,如加温,加湿等,设备工作环境温度在30℃-9℃之间,湿度在30%-98%,PH值在2-13之间均可正常工作。
6、设备占地面积小,自重轻:适合布置紧凑,场地狭小等特殊条件,设备占地面积<1平方米/处理10000m³/h风量。
7、优质进口材料制造:防火,防爆,防腐蚀性能高,设备性能安全稳定,采用不锈钢材质,设备使用寿命在十五年以上。
其他答案3:
首先需要了解生产过程中产生的废气成分是什么,然后再根据废气成分去了解相对应的废气处理设备
有兴趣了解的话可以找我
最佳回答:
加入一些活性炭或者亚铁盐可以催化臭氧对废水的处理效果和处理速度.市场很多的.
最佳回答:
你好,uv光氧催化设备处理喷漆房废气肯定是有效果的,目前uv光氧催化废气处理设备主要应用于喷漆喷涂行业、电子行业、橡胶厂、制药厂、炼油厂等可以产生有机废气的大部分场所。因此,能处理喷漆行业的废气。
他的工作原理就是将喷漆房喷漆时产生的废气成分、漆雾颗粒物和有机废气分解转化,当然只靠uv光氧催化设备还不够,必须先加一套前置预处理设备对废气进行预处理,保证没有颗粒物的有机废气进入uv光氧催化废气处理设备中,这样才能保证处理效果。
希望能对你有所帮助。
其他答案1:
他的工作原理就是将喷漆房喷漆时产生的废气成分、漆雾颗粒物和有机废气分解转化,当然只靠万川环保uv光氧催化设备还不够,必须先加一套前置预处理设备对废气进行预处理,保证没有颗粒物的有机废气进入uv光氧催化废气处理设备中,这样才能保证处理效果
最佳回答:
光氧催化设备主要可以治理以下多种废气:
VOC(挥发性有机物)主要包括苯、甲苯、二甲苯、苯乙烯、三氯乙烯、三氯甲烷、三氯乙烷、二异氰酸酯(TDI)、二异氰甲苯酯等和挥发性恶臭气体如不饱和烃(如丁二烯、苯乙烯)、氮化物(如氨、甲基胺、粪臭素)、硫化物(如硫化氢、硫化甲基)、氯烃(如氯仿)、含氧烃(如丙酮)、植物精油(如樟脑油)等化合物。
其他答案1:
光氧催化设备是一种专门用来处理有毒有害气体的一种废气处理设备,氧气不属于有毒有害废气,所以不用处理。另外光氧催化设备利用C波段的紫外线照射气体,还有一定的杀菌除臭效果。您在选购光氧催化设备的时候最好选择有ISO9001资质的生产厂家。现在的市场很乱,有些以次充好,请认真鉴别。正蓝用的紫外线灯管采用的是石英玻璃,光是紫外线光。劣质厂家选用的紫外线灯管为普通玻璃,而且光线为普通紫光。
其他答案2:
uv光氧催化设备主要是处理废气中的氨,三甲胺,硫化氢甲硫氢,甲硫醇,甲硫醚,二甲二硫,二硫化碳和苯乙烯,VOC类,苯,甲苯,二甲苯等工业废气。
最佳回答:
一、工作原理不同
UV光解利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射恶臭气体,改变恶臭气体的分子链结构,使有机或无机高分子恶臭化合物分子链,在高能紫外线光束照射下,降解转变成低分子化合物,如CO2、H2O等
低温等离子净化器设备是由电源和齿板放电装置,使其产生高强度、高浓度、高电能的活性自由基,在毫秒级的时间内,瞬间对有害废气分子进行氧化还原反应,将废气中的大部分污染物降解成二氧化碳和水及易处理的物质。
二、工作步骤详解
UV光氧催化废气处理设备去除污染物的基本过程
1、C波段紫外线光照射废气
2、大分子有机气体链结构断裂
3、原子和电离子重新的进行组合
4、紫外线分解空气中的氧分子产生游离氧,近而产生产臭氧
5、臭氧在二氧化钛氧化剂的催化作用下进一步对废气进行氧化
等离子体去除污染物的基本过程
1、高能电子的直接轰击
2、O原子或臭氧的氧化过程
3、OH自由基的氧化
4、分子碎片+氧气的反应
三、应用范围不同
uv光氧催化废气处理设备主要用于臭气异味的净化治理,例如污水处理厂、垃圾厂、喷涂业、喷漆房、印刷厂、橡胶厂、农药厂、医药厂等的臭气异味处理。
低温等离子净化器主要用于处理有油烟的气体,例如餐饮业、垃圾焚烧、炼油厂、皮革厂等
如果您有任何问题,您可以详询正蓝环保技术人员,我们将以专业的知识技术、优质的产品竭诚为您服务。
其他答案1:
前者是分子分解
其他答案1:
你们是什么厂?我们化工厂用的这个设备,效果还是可以的。环#保#也验#收#通过了。
其他答案2:
正蓝环保 ,我觉得不错的
其他答案3:
光氧催化设备是专门处理有机废气异味除味设备,效果很好,有问题请咨询我们。
最佳回答:
我举个例子 如果你的是锅炉废弃的话 废气温度达到300-500度 一般UV光解是承受不了这么高的温度的(一般都是喷淋塔或水洗塔先处理的,没有人用UV光解先处理的)-来自万川环保
其他答案1:
不同厂家 设计不一样 要求也不一样吧
其他答案2:
300-500度
其他答案3:
光氧设备的工作环境温度在摄氏-30℃-95℃之间,湿度在30%-98%、PH值在2-13之间均可正常工作,但正蓝环保在给公司作设计方案的时候,一般要求环境温度控制在-20~80℃之间。
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